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南通小型电镀设备价格-宝来利真空机电-丹阳 真空镀膜机厂家

   日期:2018-07-13  来源:www.zhankua.com   浏览:2   编号:5Z3876469
 真空镀膜机在镀膜的时候,需要镀层表面的化学成分保持均匀性,这主要体现在以下三个方面:
1、厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,在光学薄膜的尺度上看也就是1/10波长作为单位,约为100A,真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度,也就是说要实现10A甚至1A的表面平整,具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。
2、化学组分上的均匀性: 就是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性,SiTiO3薄膜,如果镀膜过程不科学,那么实际表面的组分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技术含量所在。
3、晶格有序度的均匀性: 这决定了薄膜是单晶,多晶,非晶,是真空镀膜技术中的热点问题。

真空卷绕镀膜设备的主要技术特征是:
其一,被镀基材为柔性基材,即具有可卷绕性;
其二,镀膜过程具有连续性,即在一个工作周期内镀膜是连续进行的;
其三,镀膜过程始终在高真空环境中进行。
由以上特征可知:其基本结构必须有卷绕传动,有卷材(基材)的放卷和收卷。在放卷和收卷的过程中基材被镀上薄膜。镀膜部分就是真空卷绕镀膜设备的工作部。它位于基材的收放卷之间。工作部的工作原理可以是前述的电阻蒸发、感应蒸发、电子束蒸发、磁控溅射或者其它真空镀膜方法中的任一种。
要维持工作周期内镀膜过程的连续性,就要求镀材(沉积材料)足够多。在蒸发卷绕镀中就要求有足够大的坩埚,或者有连续的送料机构;在磁控溅射中要求有足够大的靶材。要有一个真空的环境,以上装置需置于一个密封的真空容器中,并有一套真空机组,以维持工作周期内真空度的稳定性。
这样,一台典型的真空卷绕镀膜设备就初具雏形了。当然,在卷绕系统中为保证膜层的均匀性,要做到卷绕系统线速度的恒定;为保证基材的平整度和收卷不跑偏,要做到卷绕系统基材张力的恒定,并要有基材展平装置。在镀膜部分须有挡板和水冷装置,在连续送蒸镀材料的机构中,送料速度必须实现恒定并可调.
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